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【國科會計畫成果】可讓與專利公告 (公告日期2026年10月15日)

最後更新日期 : 2026-10-15

公告時間:2026/10/15    

廠商申請專利讓與截止日:2027/1/14

序號

專利權人

專利名稱

專利證號/類別/國別

1

明志科技大學

氮化鋁薄膜的物理氣相沉積
PHYSICAL VAPOR DEPOSITION OF AN ALUMINIUM NITRIDE FILM

I564410/發明/中華民國

如有意取得該項技術授權之廠商,請與本處產學合作發展中心洽詢(02)2908-9899#3079

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